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Manifold di servizio CMP

SEM / 03

Gestione slurry, acqua DI e drenaggi per stazioni di lucidatura wafer.

Manifold di servizio per processi CMP: distribuzione slurry con geometrie anti-sedimentazione, linee di flussaggio e raccolta drain separata per il recupero.

Progettati sulla configurazione specifica della stazione di lucidatura del cliente.

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